Electron-beam, X-ray, EUV and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing VI - 11-13 March 1996, Santa Clara, California
- Författare
- (David E. Seeger, chair/editor)
- Genre
- Konferenspublikation
- Språk
- Engelska
| Förlag | År | Ort | Om boken | ISBN |
|---|---|---|---|---|
| Cop. 1996 | USA | 412 sidor. | 0-8194-2099-9 |